本中心量測機台新增「高速掃描探針式顯微鏡」，歡迎多加利用

一、廠牌與型號：Asylum Research, Cypher S AFM Microscope

二、可量測項目:

1. 表面形貌 (Tapping、Contact)
2. 壓電力顯微術 (Dual AC and Dual AC Resonance Tracking Piezoresponse Force Microscopy, DART-SSPFM) * 雙峰及諧波測量下可提供多重頻率驅動及分析
3. 磁力顯微鏡 (Magnetic Force Microscopy, MFM)
4. 靜電力顯微鏡 (Electrostatic Force Microscopy, EFM)
5. 表面電位顯微鏡 (Kelvin Probe Force Microscopy, KPFM)
6. 側向力顯微鏡 ( Lateral Force Microscopy, LFM)
7. 奈米微影 (Nano lithography)
8. 損耗正切映射製圖 (Loss tangent mode)
9. Modulus mapping
10. 施力與位移量 (Force vs. displacement)
11. 施力映射製圖 (Force mapping)
12. 可在液體中操作 (Operation in fluid)

三、重要規格及注意事項

1. 掃瞄範圍:

1. 樣品大小:15mm*15mm*7mm (L*W*H)
2. 掃描面積:30µm*30µm*5µm

2. AFM掃瞄系統
   a. 在封閉迴路下具原子級解析度

2. 資料擷取最高:8000x8000平方像素
3. Z-sensor 在頻寬0.1Hz至1kHz間<60pm (Adev)

3. 光學槓桿系統 (Optical lever system):
   a. 水平雜訊在頻寬0.1Hz至1kHz間<10pm (Adev)。

b. 垂直雜訊在頻寬0.1Hz至1kHz間<15pm (Adev)。

四、自行操作辦法

• 機台放置位置為材料科技館516實驗室，若有自行操作之需求，本機台訓練不需事先向中心提出申請，得逕行向機台管理者聯繫訓練事宜；委託代工送件時亦同，請直接聯繫機台管理者送件。
• 聯絡窗口：陳怡誠先生 (電話：03-5715131 分機：35223；yicheng.chen@mx.nthu.edu.tw)
• 自行操作使用之探針需自備，可與奈材中心購買。(鼓勵自己帶針，中心的針適合初學與救急，價錢較高)
• 自行操作執照分為Level 1 and Level 2
• Level 1 為基礎使用，可以使用表面形貌模式 (Tapping, Contact)
• Level 2 為進階使用，需取得Level 1 執照後，視需求與管理員考核所需模式 (PFM, MFM, EFM…etc)
• 一個月內通過3次訓練(自費)後，方可進行機台考核，取得自行操作執照。
• 取得執照後，自行操作過程因人為失誤造成機台故障，應負修復之責任。
• 如超過三個月未有使用紀錄需重新進行訓練，方可自行操作