"電漿輔助化學氣相沈積系統 (PECVD)"重新開放使用了！歡迎多加利用

 

本中心製程機台「電漿輔助化學氣相沉積系統（PECVD）」重新開放使用了，歡迎多加利用

一、廠牌與型號 : Samco PD-220N


二、用途

沈積SiO2 (SiH4 + N2O)；Si3N4 (SiH4 + NH3+N2) ；TEOS-Oxide(僅提供代工)  。

三、重要規格

  • Wafer size:破片~ 4" silicon wafer。(超過4吋請先與管理者討論)
  • RF Power: <200W
  • Temperature: < 300 ℃。
  • Uniformity : < 5 %。