FEI Helios Nanolab 600i System

聚焦離子束電子束掃描式顯微鏡系統主要包括掃描式電鏡與聚焦離子束顯微鏡，功能有奈米微結構圖形雕刻、TEM試片製作、橫截面製作與觀測等。並提供鉑、金、二氧化矽等三種氣體，可製作奈米微結構圖形沉積。另加裝能量分散質譜儀(EDS) ，可做微區成份分析。

 

	SEM	FIB
Acceleration voltage	350V -30 KV	500V -30 KV
Probe current	0-22 nA	1.1 pA – 65 nA
Resolution	< 0.9 nm (15 KV)                                           < 1.4 nm (1 KV)	< 4 nm (30KV)
GIS	Pt,  Au,  TEOS
Omniprobe 200
Energy Dispersive Spectrometer (EDS)

1. 限博士班學生及博士級研究人員，且具備場發式電子顯微鏡使用執照，並修過材料分析相關課程者，經本中心核可後，方可進行觀摩與實習。
2. 報名窗口：清大奈材中心莊婉勤小姐（工三館 106室，分機：42270）。
3. 半年內通過〔10次觀摩(免費) + 10次上機實習(自費)〕後，進行筆試，筆試合格後，方可進行機台考核，取得自行操作執照。
4. 上機實習須與管理人員連繫後進行。
5. 取得執照後，自行操作過程因人為失誤造成機台故障，應負修復之責任。

 

       

設備名稱/服務項目			清大	其他學界	業界
聚焦離子束電子束掃描式顯微鏡系統（Dual-beam Focused Ion Beam System，FIB）	委託 代工	開機費	6,000元/3hr	3,500元/時	6,000元/時
		超時費	2,000元/時
	自行 操作	開機費(3hr)	4,500元/次	暫不開放	暫不開放
		超時費	1,500元/時	暫不開放	暫不開放
	金屬沉積費		Au每分鐘1,000元。 TEOS每分鐘100元。 Pt 3分鐘內，暫不計費，超過3分鐘後，每分鐘加收100元。

 

 

       1. 限制使用FIB機台之材料：

        a.磁性材料

        b.低熔點的物質或電子束照射下會分解或釋出氣體材料

        c.合金材料含有磁性材料者

        d.粉末

            使用者必需詳細說明試片，若因不當試片造成機台損壞或污染，須負賠償責任。

           2.導電性不佳及絕緣體試片需先鍍導電膜

          3.試片規格：直徑< 2.5cm

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