原子層沉積系統（ALD）
儀器說明
一、 廠牌與型號：
PICOSUN R200 Advanced
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二、重要規格及注意事項
(1) Max. Size: 8” wafer (破片到8“ wafer)
(2) 目前僅提供Al2O3 layer deposition
(3) Process : H2O process
(4) 材料限制：除Al, Ti, Cr外，不能含其他金屬。不接受高分子材料。
(5) 目前只提供代工。
三、Reference
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Temp. (C)
Thickness (nm)
n (633 nm)
Std. Dev. (%)
300
48.1
1.67
0.63
250
50.5
1.67
0.82
150
46.7
1.66
0.95
註：500 Cycles (~2.5 hr)
四、服務項目及收費標準
| 設備名稱/服務項目 | 清大 | 其他學界 | 業界 | ||
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原子層沉積系統（ALD） |
委託代工 |
代工費 |
1,000元/時 |
1,500元/時 |
2,000元/時 |
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自行操作 |
暫不開放 |
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材料費 |
5元 / cycle |
10元 / cycle |
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五、代工申請表
代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐，送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後，送件至中心 林小姐
六、機台負責人