清華實驗室無塵區化學清洗室(站一站二站三)

儀器說明

一、廠牌與型號：

二、用途

清洗、蝕刻

三、重要規格

四吋、六吋晶圓、破片可進，四吋晶舟請向中心林小姐借取，清洗六吋或破片需自備晶舟

四、注意事項：

使用化學站時需穿著防護器具，且了解使用規定及相關規範，開始使用前必須先寫紀錄本，違者重罰。

Wafer要使用站二硫酸槽去除光阻時，需先用丙酮、DI WATER清洗過後，才能進硫酸槽清洗。

基於防範化學槽汙染及安全考量，使用下一個化學槽前，必需用DI WATER 清洗乾淨後才能進行下一個製程。

化學站三可帶酸鹼及實驗相關用具，使用完畢須自行帶走，不得置留於無塵室內，如為強揮發性之有害人體之物質請勿攜入，違者停權。

化學站三為公用區塊，為因應特殊實驗需求及公平之原則，若實驗需求有需要浸泡較長時間(人會離開)，請先向中心提出申請，核可後會依狀況酌收費用($800/日)。

***操作前請翻閱站槽旁或網站上最新版之手冊，以免違規受罰***

五、服務項目及收費標準