EVG620奈米壓印系統（EVG620）
儀器說明
一、 廠牌與型號：
億合科技/EVG620
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二、用途
silicon top side alignment
三、重要規格
晶圓規格：矽晶圓1~4吋，厚度介於0.1∼2 mm
光罩規格：五吋mask，厚度小於4 mm
對準範圍：X, Y, Z： +/- 5 mm；Theta： +/- 3.5度
對準精度：正面對準0.5μm
曝光模式：soft contact, hard contact, vacuum contact
目鏡移動範圍：Top side: X: 30-130 mm; Y: +70/-4 mm; Z: +/-5 mm
汞燈光源：350W 照度:10mw/cm2
Standard NUV for 350 – 450nm
四、注意事項：
光阻等製程耗材須自備
若須製程支援可與中心聯絡
五、服務項目及收費標準
| 設備名稱 / 服務項目 | 清大 | 其他學界 | 業界 | ||
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EVG620奈米壓印系統 & 單面對準曝光 |
委託代工 |
開機費(2hr) |
3,500元/次 |
5,000元/次 |
6,500元/次 |
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超過開機時間 加收費 |
1,500元/時 |
2,500元/時 |
3,000元/時 |
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自行操作 |
開機費(2hr) |
1,600元/次 |
2,400元/次 |
3,200元/次 |
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超過2hr 每15分鐘加收 |
200元/刻鐘 |
300元/刻鐘 |
400元/刻鐘 |
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光阻等製程耗材須自備或洽中心助理 |
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六、操作手冊
七、代工申請表
代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐，送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後，送件至中心 林小姐
八、機台即時訊息
九、負責人員