後三化學槽（Chemical Bench Ⅰ）
儀器說明
一、 廠牌與型號：
清洗蝕刻用化學站
廠商：嵩展工業有限公司
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二、用途
標準清洗 (僅能清洗乾淨的晶片，不得清洗光阻、金屬、三五族)
三、重要規格
需小於6吋WAFER(包含6吋WAFER)，清洗破片需自備晶舟
四、注意事項：
使用化學站時需穿著防護器具，且了解使用規定及相關規範，開始使用前必須先寫紀錄本，違者重罰。
Wafer如有光阻必須先經化學站二標準清洗後，才能進化學站一清洗。
基於防範化學槽汙染及安全考量，使用下一個化學槽前，必需用DI WATER 清洗至水阻值8MΩ並且旋乾後才能進行下一個製程。
五、服務項目及收費標準
| 設備名稱 / 服務項目 | 清大 | 其他學界 | 業界 | ||
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工三館後三化學站（Chemical Bench I） |
委託代工 |
開機費 (2小時) |
1,000元/次 |
1,500元/次 |
2,000元/次 |
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超過開機時間 加收費 |
500元/時 |
750元/時 |
1,000元/時 |
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自行操作 |
設備 使用費 |
進出管理費已包含 |
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僅提供四吋晶圓標準清洗(H2SO4及HF之清洗)之代工(結構層不含金屬及三、五且為乾淨的晶圓)
六、操作手冊
七、代工申請表
代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐，送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後，送件至中心 林小姐
八、機台即時訊息
九、負責人員