快速熱退火系統
Premtex RTP-S61-M
![]() |
|
載盤類型 |
目的 |
氣體 |
備註 |
|
A載盤(無蓋)- 無污染 Process |
Oxide/nitride/silicon..etc.進行退火處理。 |
皆可 |
1.凡有機物(高分子/PR..etc.)/融點低(Sn/In..etc.)/易揮發性皆禁止。 2. B載盤屬於Dirty Process因此使用時一定要蓋上蓋,防止Chamber污染。 3. 新的B載盤為純的石墨易碎,因此使用時請小心拿取。 4. 請使用時請選擇”正確”的載盤,以免Chamber污染。 5. 原舊有A載盤已損壞,目前A載盤為新的SiC盤,由重量較重,擺放時請小心石英支架。 以上若有疑問請聯絡管理者!!!
|
|
B載盤(附上蓋)- Dirty Process |
對金屬/Ⅲ.Ⅴ族..etc. 進行退火處理。 |
禁止通O2 |
|
|
C載盤-6吋 Si wafer(自備) |
Oxide/nitride/silicon..etc.進行退火處理。 |
皆可 |
Wafer size:破片、4" wafer~ 6" wafer
Maximal Ramping Speed:
- 100℃/sec for Si-wafer
- 40℃/sec for Graphite
- 30℃/sec for SiC
Process Temperature:200~1000℃
Maximal Process Time:
- T<500℃:10min
- T<800℃:5min
- T<1000℃:3min
Process Gas:
- N2 3SLM/ N2 30SLM
- O2 500SCCM/ Ar 500SCCM
- 20%H2+80%N2 500SCCM
| 設備名稱 / 服務項目 | 清大 | 其他學界 | 業界 | ||
|
快速熱退火系統(RTA) |
委託代工 |
開機費(2hr) |
2,400元/次 |
3,600元/次 |
4,800元/次 |
|
超過開機時間 加收費 |
1,200元/時 |
1,800元/時 |
2,400元/時 |
||
|
自行操作 |
開機費(2hr) |
2,000元/次 |
2,800元/次 |
4,000元/次 |
|
|
超過2hr 每15分鐘加收 |
250元/刻鐘 |
350元/刻鐘 |
500元/刻鐘 |
||
代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心 林小姐

