射頻濺鍍系統（RF Sputter System）
儀器說明
一、 廠牌與型號：
ULVAC RFS-200S
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二、用途
濺鍍沈積Al、AlN於4" wafer
三、重要規格
Sputtering power supply: RF: 500~1800 W, 13.56 MHz
Main pump: CRYO pump
Ultimate chamber pressure: < 5*10-4 Pa
Uniformaty: 4" wafer: ＜ 5%
此設備為單片製程（single wafer）
注意事項：
請詳細註明鍍膜厚度
禁止使用ⅢⅤ、ⅡⅥ半導體化合物
若使用破片，請自行固定於4吋wafer上
四、服務項目及收費標準
| 設備名稱 / 服務項目 | 清大 | 其他學界 | 業界 | ||
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射頻濺鍍系統（RF Sputter System） |
委託代工 |
開機費(2hr) |
3,600元/次 |
5,400元/次 |
7,200元/次 |
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超過開機時間 加收費 |
1,500元/時 |
2,000元/時 |
3,000元/時 |
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自行操作 |
開機費(2.5hr) |
2,000元/次 |
3,000元/次 |
4,000元/次 |
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超過2.5hr 每15分鐘加收 |
200元/刻鐘 |
300元/刻鐘 |
400元/刻鐘 |
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五、操作手冊
六、代工申請表
代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐，送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後，送件至中心 林小姐
七、機台即時訊息
八、負責人員