跳到主要內容區

新的"高速掃描探針式顯微鏡"上線了!歡迎多加利用

本中心量測機台新增「高速掃描探針式顯微鏡」,歡迎多加利用

AFMAFM

一、廠牌與型號:Asylum Research, Cypher S AFM Microscope

二、可量測項目:

  1. 表面形貌 (TappingContact)
  2. 壓電力顯微術 (Dual AC and Dual AC Resonance Tracking Piezoresponse Force Microscopy, DART-SSPFM) * 雙峰及諧波測量下可提供多重頻率驅動及分析
  3. 磁力顯微鏡 (Magnetic Force Microscopy, MFM)
  4. 靜電力顯微鏡 (Electrostatic Force Microscopy, EFM)
  5. 表面電位顯微鏡 (Kelvin Probe Force Microscopy, KPFM)
  6. 側向力顯微鏡 ( Lateral Force Microscopy, LFM)
  7. 奈米微影 (Nano lithography)
  8. 損耗正切映射製圖 (Loss tangent mode)
  9. Modulus mapping
  10. 施力與位移量 (Force vs. displacement)
  11. 施力映射製圖 (Force mapping)


三、重要規格及注意事項

  1. 掃瞄範圍:
  1. 樣品大小:15mm*15mm*7mm (L*W*H)
  2. 掃描面積:30µm*30µm*5µm
  1. AFM掃瞄系統
    a. 在封閉迴路下具原子級解析度
  1. 資料擷取最高:8000x8000平方像素
  2. Z-sensor 在頻寬0.1Hz1kHz<60pm (Adev)
  1. 光學槓桿系統 (Optical lever system):
    a.
    水平雜訊在頻寬0.1Hz1kHz<10pm (Adev)

b. 垂直雜訊在頻寬0.1Hz1kHz<15pm (Adev)

四、自行操作辦法

  • 機台放置位置為材料科技館516實驗室,若有自行操作之需求,本機台訓練不需事先向中心提出申請,得逕行向機台管理者聯繫訓練事宜;委託代工送件時亦同,請直接聯繫機台管理者送件。
  • 聯絡窗口:黎博士 (電話:03-5715131 分機:35223;lequynhcn@gmail.com)
  • 自行操作使用之探針需自備,可與奈材中心購買。(鼓勵自己帶針,中心的針適合初學與救急,價錢較高)
  • 自行操作執照分為Level 1 and Level 2
  • Level 1 為基礎使用,可以使用表面形貌模式 (Tapping, Contact)
  • Level 2 為進階使用,需取得Level 1 執照後,視需求與管理員考核所需模式 (PFM, MFM, EFM…etc)
  • 一個月內通過3次訓練(自費)後,方可進行機台考核,取得自行操作執照。
  • 取得執照後,自行操作過程因人為失誤造成機台故障,應負修復之責任。
  • 如超過三個月未有使用紀錄需重新進行訓練,方可自行操作
瀏覽數: