本中心製程機台「電漿輔助化學氣相沉積系統(PECVD)」重新開放使用了,歡迎多加利用
一、廠牌與型號 : Samco PD-220N
二、用途
沈積SiO2 (SiH4 + N2O);Si3N4 (SiH4 + NH3+N2) ;TEOS-Oxide(僅提供代工) 。
三、重要規格